前三星高层涉盗商业秘密被捕 试图在中国复制一座半导体工厂

《彭博》 报导引述韩国检察官於 6 月 12 日的声明指一名前 Samsung 高层因涉嫌在 2018 至 2019 年间盗取商业秘密,试图在中国北部城市西安复制一座半导体工厂,而遭到逮捕。该人士,现年 65 岁,计划由一家未被具名的台湾公司提供资金支持。

这起案件揭示的情况严重,以至於根据南韩苏院区检察官办公室的声明,其犯罪规模和损害程度难以与以往的个别半导体技术泄露案件相比。

相对於试图引诱关键工程师、挪用关键设计或反向工程软体和组件的智慧财产权案件,想要复制整个晶片制造设施的企业案例却相对罕见。

检察官表示,这位前高层试图利用偷来的技术和数据,在西安现有设施 1.5 公里外建造一座复制三星晶片工厂。但是,据韩联社报导,台湾公司在承诺将在新设施中投资超过 60 亿美元後,未能兑现该承诺。

据《彭博》 报导,这位前高层转而寻求一群中国投资者的支持,在成都的一家晶片工厂开始以三星技术为基础生产试验产品。而这位涉案人士在三星工作了 18 年後,转至另一家未被具名的公司工作了大约十年。在这过程中,该前三星官员聘用了来自韩国的超过 200 名晶片专家,并从三星偷走了价值至少 3000 亿韩元(2.33 亿美元)的重要数据。检察官们还起诉了六名涉嫌是这名高级执行官的同谋者。

这起案件也可能引发韩国和台湾之间的紧张关系,因为双方也是全球最重要的晶片制造中心。

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